受賞賞名:奨励賞
受賞者名:藤原康裕(東京工業大学材料工学専攻/HOYA株式会社)
会 議 名:The 5th International Workshop on DV-Xα(第21回DV-Xα研究会)
開 催 日:2008年8月6日(水)~2008年8月8日(金)
場 所:兵庫県立大学姫路書写キャンパス書写紀念会館(兵庫県姫路市)
主 催:DV-Xα研究協会
受賞内容:受賞者は1998年度から長期間にわたり、DV-Xα分子軌道法および分子
動力学計算を併用して固体界面における化学結合を解析する研究に取
り組んできた。例えばカルシウムシリケート前躯体生成メカニズムや
ガラス表面と炭化物との融着反応機構などを解析することにより、ガ
ラスなどの秩序性に乏しい固体を含む固相/固相ヘテロ界面における
化学反応を電子状態の視点から明らかにしてきた。DV-Xα法を用いた
これらの計算は、実験で得られた種々の観測と大変良く一致し、多く
の知見が得られている。受賞者の企業研究者という立場からも、今後
は産業最先端の開発現場におけるノウハウを計算化学により体系化し、
その本質の把握から新たな技術開発の糸口を見出すことが期待され、
以上の研究姿勢が奨励されることとなった。
授賞式の様子(この写真はDV-Xαホームページ(http://www.dvxa.org/)から引用させていただきました)